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Nachrichten und Pressemeldungen aus Labor und Analytik

21.01.2009

Neue VDI/VDE-Richtlinie über röntgenoptische Systeme


Innerhalb des letzen Jahrzehnts hat die Anwendung von Röntgenstrahlung in der Mess-, Prüf- und Analysentechnik starkes Interesse gefunden.

Darüber hinaus ist die Anwendung "weicher" Röntgenstrahlung für die nächste Generation der Halbleiter-Lithographie derzeit in Vorbereitung. Diese Entwicklungen haben zu stürmischen Fortschritten im Bereich röntgenoptischer Systeme geführt. Die Richtlinie VDI/VDE 5575 hat zum Ziel, in diesem Technologiegebiet für Anwender und Entwickler eine gemeinsame Sprache zu definieren und einen Überblick über die wichtigsten, technisch relevanten röntgenoptischen Systeme zu geben.

Mit den vorliegenden Blätter 3 und 5 über Röntgenkapillaroptiken und Transmissionszonenplatten werden die Eigenschaft und charakterisierende Parameter dieser wichtigen röntgenoptischen Elemente erläutert. Die Darstellung erlaubt es dem Anwender, anhand der dargestellten Eigenschaften die Eignung dieser röntgenoptischen Elemente für sein aktuell vorliegendes Problem zu prüfen.

Herausgeber der Richtlinie VDI/VDE 5575 Blatt 3 und 5 sind das VDI-Kompetenzfeld Optische Technologien und die VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik. Die Entwürfe VDI/VDE 5575 Blatt 3 und 5 erscheinen ab Februar 2009 beim Beuth Verlag in Berlin. Einsprüche sind bis 31. Juli 2009 möglich.

Quelle: Verein Deutscher Ingenieure (VDI)




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