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Nachrichten und Pressemeldungen aus Labor und Analytik

20.09.2004

Neue Lichtquelle für die Strahlungsmesstechnik


Die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) erweitert ihre Strahlungsmesstechnik am Standort Berlin-Adlershof und baut in unmittelbarer Nachbarschaft zum Speicherring BESSY II einen eigenen Elektronenspeicherring, der speziell metrologischen Zwecken dienen wird. Die neue Lichtquelle, ein Niederenergie-Elektronenspeicherring, wird vor allem ultraviolette und extrem-ultraviolette Synchrotronstrahlung produzieren. Zusammen mit der bei BESSY II verbleibenden Röntgenradiometrie wird die neue Anlage die weltweite Führungsposi-tion der PTB bei der Weiterentwicklung und Nutzung der Radiometrie mit Synchrotronstrahlung stärken. Mit dem ersten Spatenstich am 24. September 2004 beginnt die Bauphase dieser "Metrology Light Source" (MLS). Der Spatenstich wird "eingerahmt" durch eine Feier anlässlich des 25-jährigen Bestehens der BESSY GmbH (Berliner Elektronenspeicherring - Gesellschaft für Synchrotronstrahlung).

Die PTB kann auf langjährige Erfahrungen zurückblicken: Seit über zwanzig Jahren nutzt sie Synchrotronstrahlung für ihre Zwecke, beginnend mit dem Speicherring BESSY I in Berlin-Wilmersdorf. Mit der Aufnahme des Betriebes von BESSY II in Berlin-Adlershof erweiterte die PTB ihre Messmöglichkeiten in den Rönt-genbereich hinein. Das neue Willy-Wien-Labora-tori-um mit der Metrology Light Source wird voraussichtlich ab 2008 die durch den Wegfall von BESSY I (1999) entstandenen Lücken speziell im Spektralbereich des Extrem-Ultraviolett schließen. Mit dem eigenen Speicherring wird dann die PTB auch erstmalig selbst über uneingeschränkten Zugang zu einem solchen Primärnormal verfügen.

Synchrotronstrahlung wird von der PTB vorwiegend zur Charakterisierung von Strahlungsquellen, Strahlungsempfängern und optischen Komponenten genutzt. Schwerpunkte liegen in der extraterrestrischen Sonnenphysik (Messsensoren und Komponenten für die satellitengestütze Sonnenbeobachtung) und in der Entwicklung von Messtechnik für die zukünftige 13-nm Mikrolithographie in der industriellen Halbleiterfabrikation.

Quelle: Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB)




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